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ICT分野の研究開発人材育成に関する研究会
ワーキンググループ(第1回)


日時: 平成181130日(木)1400分〜
場所: 総務省 低層棟1階 共用会議室4(総務省)


議事次第
  1. 開会
  2. 構成員紹介
  3. 配付資料の確認
  4. ワーキンググループ設置についての確認と議事の公開について
  5. 議事
    (1)   第1回研究会での主な意見
    (2)   研究開発人材育成の現状と課題、在り方について
    (3)   アンケート調査について
    (4)   その他
  6. 閉会


[配布資料](PDF)
 資料WG1−1   第1回研究会での主な意見
 資料WG1−2   総務省人材育成研究会WG資料(東芝)
 資料WG1−3   ICT分野における「研究開発」人材(日立製作所)
 資料WG1−4   ICT分野の研究開発人材育成(三洋電機)
 資料WG1−5   ICT時代の人材育成 NTT研究所の取り組み状況(日本電信電話)
 資料WG1−6   研究開発人材育成の課題と施策(松下電器産業)
 資料WG1−7   ICT分野の研究開発人材育成(沖電気工業)
 資料WG1−8   研究開発人材等に関する調査(案)

 参考WG1−1   ICT分野の研究開発人材育成に関する研究会」開催要綱
 参考WG1−2   研究会の公開について
 参考WG1−3   ワーキンググループ(WG)の設置について
 参考WG1−4   検討スケジュール
 参考WG1−5   検討項目について



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